Concepedia

Germanium Implantation into Silicon: An Alternate Pre‐Amorphization/Rapid Thermal Annealing Procedure for Shallow Junction Formation

D. K. Sadana, W. Maszara, J. J. Wortmann, G. A. Rozgonyi, W. K. Chu

Journal of The Electrochemical Society · 1984 · 67 citations · 0 references

DOI

Concepts

Abstract

Etude par microscopie electronique et spectrometrie SIMS du comportement au recuit de Si preamorphise par implantation de bore, implante ou non dans une seconde etape par BF 2