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Optical properties of amorphous thin films of MoO3 deposited by vacuum evaporation
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1988
Year
Materials ScienceSemiconductorsAmorphous Thin FilmsOptical MaterialsOptical Absorption EdgeUrbach RuleAbsorption SpectraEngineeringOptical PropertiesOxide ElectronicsSurface ScienceApplied PhysicsLight AbsorptionThin Film Process TechnologyThin FilmsVacuum EvaporationAmorphous SolidThin Film Processing
The absorption spectra of MoO3 amorphous thin films in the thickness range from 50 to 350 nm are studied as a function of thickness in the temperature range from 20 to 275°C. The validity of the Urbach rule is investigated and the related parameters are estimated. It is confirmed that absorption in these layers is due to non-direct transitions. A decrease in optical energy gap with annealing is reported. The analysis of optical absorption edge as a function of temperature is discussed with particular reference to amorphous molybdenum trioxide films. The decrease in the optical energy gap with increasing substrate temperature is reported and discussed in terms of current theory. Les absorption spectrales des couches minces de MoO3 avec leurs épaisseurs entre 50 et 350 nm étaient étudiées comme fonction de l'épaisseur. Pour les températures entre 20 et 275 °C, la validité de la règle d'Urbach était étudiée et les paramètres étaient calculés. On confirme que l'absorption optique dans les couches minces est contrǒlée par les transitions électroniques nondirectes dans l'espace k. Une décroissance du bandgap optique avec le traitement thermique est observée. L'analyse de la limite d'absorption comme fonction de la température est discutée avec le MoO3 comme exemple. La décroissance du bandgap optique avec l'élévation de la température est considerée avec l'emploi de la théorie récente.
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