High growth rate process in a SiC horizontal CVD reactor using HCl
Francesco La Via,
G. Galvagno,
Fabrizio Roccaforte,
Filippo Giannazzo,
Salvatore Di Franco,
Alfonso Ruggiero,
R. Reitano,
L. Calcagno,
G. Fóti,
Marco Mauceri,
Microelectronic Engineering · 2005 · 24 citations · 1 references