Highly Ordered Mesoporous Silica Films with Perpendicular Mesochannels by a Simple Stöber‐Solution Growth Approach

Abstract

Ein einfacher Weg zu Siliciumoxidfilmen mit senkrechten Mesokanälen: Das Substrat wird in eine Stöber-Lösung getaucht, in der die Siliciumoxidvorstufen hydrolysiert, mit Ammoniak als Katalysator vernetzt und mithilfe eines Tensids auf dem Substrat zu hexagonalen Mesostrukturen zusammengefügt werden, die senkrecht zur Substratoberfläche angeordnet sind. Detailed facts of importance to specialist readers are published as ”Supporting Information”. Such documents are peer-reviewed, but not copy-edited or typeset. They are made available as submitted by the authors. Please note: The publisher is not responsible for the content or functionality of any supporting information supplied by the authors. Any queries (other than missing content) should be directed to the corresponding author for the article.