EXAFS studies on superficial regions by means of total reflection

Abstract

The reflectivity of a thin partially oxidized Cu film is measured as a function of the photon glancing angle around the critical angle of total reflection and as a function of energy around the K absorption edge of Cu. Above the edge fine structures are observed in the energy dependent spectra which are related to the EXAFS phenomenon. A procedure is proposed to extract these fine structures. They are discussed concerning informations about the geometrical structure in superficial regions of the sample. Die Reflektivität eines dünnen, teilweise oxidierten Kupferfilms wird als Funktion des Glanzwinkels der Photonen in der Umgebung des Grenzwinkels der Totalreflektion und als Funktion der Energie der Photonen in der Umgebung der Cu K-Absorptionskante gemessen. In den energieabhängigen Spektren treten Feinstrukturen auf, die der EXAFS im Absorptionskoeffizienten ähnlich sind. Ein Verfahren zur Isolierung dieser Feinstrukturen wird vorgeschlagen und mit deren Hilfe eine Analyse der geometrischen Struktur der oberflächennahen Bereiche der Probe vorgenommen.