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Determination of minority carrier mobility in silicon from stationary and transient lifetime measurements
11
Citations
18
References
1988
Year
Wide-bandgap SemiconductorEngineeringTransient Lifetime MeasurementsDopant DensityOptoelectronic DevicesSilicon On InsulatorSemiconductorsCharge Carrier TransportCompound SemiconductorSemiconductor TechnologyMinority Carrier MobilityElectrical EngineeringSteady State PhotoconductivityPhysicsBias Temperature InstabilityOptoelectronic MaterialsSemiconductor MaterialDevice ReliabilitySilicon DebuggingApplied PhysicsSteady State MethodOptoelectronics
The minority carrier diffusion coefficient in Si as a function of dopant density is evaluated by comparing the diffusion length, as obtained by a steady state method (using a combination of the photoelectromagnetic (PEM) effect and the steady state photoconductivity (PC) effect) and a life-time obtained by the photoconductivity decay (PCD) method. Within the limits of the experimental data dispersion, the electron minority diffusinn coefficients are found to be comparable to the majority ones in the doping range 3 × < NA < 3 × 1017 cm−3. The minority hole diffusion coefficients are about 36% higher than the majority hole coefficients in the doping range 6.1 × × 1013< ND < 7.1 × 1016cm−3. Die Diffusionskoeffizienten der Minoritätsladungsträger in Silizium werden aus dem Vergleich zwischen Diffusionslänge, die mit einer stationären Methode (der gleichzeitigen Anwendung des photoelektromagnetischen Effekts und des stationären Photoleitungseffekts) gemessen wurde, und der Lebensdauer bestimmt, die aus Abklingen der Photoleitung ermittelt wurde. Innerhalb des experimentellen Meßfehlers sind im Dotierungsbereich 3 × 1014cm−3 < NA < 3 × 1017cm−3 die Diffusionskoeffizienten der Minoritätselektronen vergleichbar mit denen der Majoritätselek-tronen. Die Diffusionskoeffizienten der Minoritätslöcher sind um 36% größer als die der Majoritäts-löcher im Dotierungsbereich 6,1 × 1013 < ND < 7,1 × 1016cm−3.
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