Concepedia

Comparison of negative tone resists NEB22 and UVN30 in e-beam lithography

A.J. van Dodewaard, Wilhelmus S. M. M. Ketelaars, R.F.M. Roes, J.A.J. Kwinten, F.C.M.J.M. van Delft, Arnold J. van Run, A. K. van Langen-Suurling, J. Romijn

Microelectronic Engineering · 2000 · 10 citations · 0 references

DOI

Concepts