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Influences of working pressure on properties for TiO2 films deposited by DC pulse magnetron sputtering
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2009
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Materials EngineeringMaterials ScienceChemical EngineeringH 由紫外光在照耀以后到达了最大值EngineeringPa 扔的锐钛矿 Tio2Oxide ElectronicsSurface ScienceApplied PhysicsMaterials CharacterizationTitanium Dioxide MaterialsTio2 FilmsChemistryThin FilmsFunctional MaterialsThin Film Processing
TiO2 电影被 DC 脉搏磁控管劈啪作响在房间温度扔系统。TiO2 的催化活动拍摄的水晶的结构,词法特征和相片被 X 光检查衍射(XRD ) 系统地调查,原子力量显微镜学(AFM ) 和紫外分光光度计分别地。结果显示工作压力是在房间温度影响 TiO2 电影阶段作文的关键免职参数,它直接影响了它的相片催化活动。与增加工作压力,目标自我偏爱单调地减少。因此,低温度 TiO2 阶段(锐钛矿) 能与高工作压力被扔。与工作压力显示了的 1.4 Pa 扔的锐钛矿 TiO2 电影最高的相片由甲基橘子答案的分解的催化活动,降级率它为 1 h 由紫外光在照耀以后到达了最大值(35%) 。