Atomic Transport in Cr<sub>2</sub>O<sub>3</sub> and Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> Scales: Growth Mechanism and Effect of Yttrium

Abstract

Les proprietes de transport de couches, soit d'oxyde de chrome, soit d'alumine, ont ete caracterisees par mesures de coefficients de diffusion, soit par echange isotopique pour l'anion, soit par depot d'une couche mince pour le cation. Les profils de penetration ont ete etablis par SIMS. L'analyse directionnelle de ces profils a ete menee en introduisant deux nouveaux concepts prenant en compte l'intervention d'une diffusion apparente dans la premiere partie du profil et la rugosite de surface de la couche qui induit une modification de la valeur de f, fraction de sites associes aux joints de grains. En raison des difficultes d'analyse rencontrees avec les couches d'alumine, les proprietes de transport ont alors ete etudiees par une methode electrochimique qui conduit a des resultats tres satisfaisants, c'est-a-dire, entre autres, a un bon record entre les constantes d'oxydation experimentales et calculees. Enfin, l'effet de l'yttrium sur ces proprietes a ete caracterise. Il est faible et ne peut justifier l'influence bien connue des elements actifs sur la resistance des couches d'oxyde de chrome ou d'aluminium.